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那諾中國(guó)有限公司專(zhuān)注于為大中華區(qū)域(包括中國(guó)大陸、香港、澳門(mén)和中國(guó)臺(tái)灣)的高校、科研院所、企業(yè)研發(fā)與生產(chǎn)等企業(yè)機(jī)構(gòu)提供高性能、高性?xún)r(jià)比、定制化的薄膜工藝加工設(shè)備及科學(xué)分析檢測(cè)儀器。那諾中國(guó)提供美國(guó)那諾-馬斯特薄膜工藝加工設(shè)備(包含磁控濺射、熱蒸鍍、電子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、離子束、DRIE、晶圓兆聲清洗機(jī)等)。那諾中國(guó)提供英國(guó)KORE基于飛行時(shí)間的質(zhì)譜儀,包含飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)、質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)(PTR)質(zhì)譜儀、電子轟擊電離(EI)質(zhì)譜儀等。
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全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng)以其高效、精確、自動(dòng)化的特點(diǎn),在半導(dǎo)體、光電子、MEMS等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步,其在精度、效率和智能化方面將進(jìn)一步提升,推動(dòng)更多高精密制造領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展。全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng)的基本工作流程:1.預(yù)處理與參數(shù)設(shè)定操作人員通過(guò)觸摸屏或計(jì)算機(jī)界面輸入刻蝕工藝所需的參數(shù),如氣體流量、壓力、功率、刻蝕時(shí)間等。這些參數(shù)會(huì)直接影響到等離子體的產(chǎn)生與穩(wěn)定性,從而影響刻蝕效果。2.氣體流量與等離子體的調(diào)控系統(tǒng)會(huì)根據(jù)設(shè)定的參數(shù)自動(dòng)調(diào)節(jié)氣體流量與壓力,確保等離子...
2025-05-28晶圓清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造過(guò)程中至關(guān)重要的設(shè)備之一,主要用于清洗晶圓表面上的雜質(zhì)、污垢和化學(xué)殘留物,以確保晶圓表面的潔凈度和質(zhì)量。這些雜質(zhì)和污染物的存在可能會(huì)影響后續(xù)的光刻、蝕刻、沉積等工藝,進(jìn)而影響芯片的性能和可靠性。因此,晶圓清洗是半導(dǎo)體生產(chǎn)中一個(gè)關(guān)鍵的工藝步驟。晶圓清洗機(jī)的工作原理:1.超聲波清洗:利用超聲波的高頻振動(dòng)將晶圓表面上的污垢、污染物分散開(kāi)來(lái)。超聲波的作用可以有效去除微小的顆粒和化學(xué)殘留物。2.噴淋清洗:使用高壓的噴淋系統(tǒng)將化學(xué)溶液噴射到晶圓表面,幫助去除污染物。...
2025-04-28全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)是一種高效的薄膜沉積設(shè)備,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體、光電顯示、太陽(yáng)能電池和傳感器等研究與產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)利用磁控濺射技術(shù),在真空環(huán)境中將靶材中的原子或分子高效地沉積到基底上,從而形成所需的薄膜。全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)的工作原理:1.真空環(huán)境:先需要在真空室內(nèi)創(chuàng)建一個(gè)高真空環(huán)境,以減少氣體分子對(duì)濺射過(guò)程的干擾并提高沉積質(zhì)量。2.靶材準(zhǔn)備:將靶材(通常由金屬、合金或陶瓷材料組成)固定在系統(tǒng)的靶位上,靶材是薄膜的主要成分。3.等離子體生成:系統(tǒng)通過(guò)在真空室內(nèi)引入惰性...
2025-03-27全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)是一種用于薄膜沉積技術(shù)的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、光學(xué)薄膜、傳感器等領(lǐng)域。該系統(tǒng)利用高能離子束轟擊靶材,通過(guò)物質(zhì)濺射的方式,在基材表面沉積薄膜。全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)的基本原理:1.氣體離子化:在高真空環(huán)境中,惰性氣體(如氬氣)被導(dǎo)入腔體,施加高頻電壓形成等離子體,使氣體部分離子化。2.離子加速:離子被電場(chǎng)加速并朝向靶材運(yùn)動(dòng)。3.靶材濺射:高速運(yùn)動(dòng)的離子與靶材發(fā)生碰撞,使靶材表面原子獲得足夠的能量,從而逸出表面,形成濺射物質(zhì)。4.薄膜沉積:濺射出的原子在腔體...
2025-01-19磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積(PVD)技術(shù),廣泛應(yīng)用于薄膜材料的制備。其基本原理是利用高能粒子轟擊靶材,導(dǎo)致靶材原子或分子逸出,并在基材表面沉積形成薄膜。該過(guò)程通常在真空環(huán)境中進(jìn)行,以確保沉積過(guò)程中的純凈和無(wú)污染。全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)的部分組成:1.真空腔體:作為整個(gè)濺射過(guò)程的核心部分,真空腔體配備有高效的抽真空系統(tǒng),確保低壓環(huán)境。2.靶材和基材架:靶材通常采用高純度的金屬或合金,根據(jù)不同的沉積需求選擇;基材架則負(fù)責(zé)固定待涂覆的基材,確保在濺射過(guò)程中的穩(wěn)定性。3.磁場(chǎng)系統(tǒng):...
2024-12-26飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜法(TOF-SIMS)是一種高度靈敏的表面分析技術(shù),可揭示樣品頂部幾個(gè)原子層的質(zhì)譜數(shù)據(jù)。Kore很榮幸成為InnoviaFilms的TOF-SIMS供應(yīng)商,InnoviaFilms是一家材料科學(xué)公司,為包括標(biāo)簽、包裝以及錢(qián)幣在內(nèi)的各種產(chǎn)品生產(chǎn)基礎(chǔ)膜。InnoviaFilms與Kore接洽,要求研究其高度差異化的雙向拉伸聚丙烯(BOPP)薄膜的不同表面處理。Kore設(shè)計(jì)的SurfaceSeer儀器成為Kore后續(xù)TOF-SIMS儀器的基礎(chǔ),并為Innovia...
2024-12-03推薦產(chǎn)品recommend