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微波等離子清洗機技術(shù)在橡塑行業(yè)的應(yīng)用已非常成熟，其相關(guān)產(chǎn)值逐年增加，國外市場比國內(nèi)市場產(chǎn)值高，但國內(nèi)可發(fā)展空間大，應(yīng)用前景誘人。經(jīng)濟的發(fā)展，人們的生活水平不斷提高，對消費品的質(zhì)量要求也越來越高，微波等離子清洗機技術(shù)隨之逐步進入生活消費品生產(chǎn)行業(yè)中；另外，科技的不斷發(fā)展，各種技術(shù)問題的不斷提出，新材料的不斷涌現(xiàn)，越來越多的科研機構(gòu)已認識到等離子技術(shù)的重要性，并投入大量資金進行技術(shù)攻關(guān)，微波等離子清洗機技術(shù)在其中發(fā)揮了非常大的作用。我們深信等離子技術(shù)應(yīng)用范圍會越來越廣；技術(shù)的成熟...

微波等離子清洗機優(yōu)勢：一、清洗對象經(jīng)微波等離子清洗機之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序?？梢蕴岣哒麄€工藝流水線的處理效率。二、微波等離子清洗機使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題；三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性。四、微波等離子清洗機采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體...

RIE-PE刻蝕機其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。RIE-PE刻蝕機是在濕法腐蝕技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，屬于純化學(xué)性腐蝕。這種方法腐蝕均勻性好、損傷小，缺點是各向刻蝕同性，對于1μm以下的細線條線寬損失明顯。所以，在等離子刻蝕的基礎(chǔ)上改進反應(yīng)結(jié)構(gòu)和接電方式，出現(xiàn)了反應(yīng)離子刻蝕。該方法加快了縱向的腐蝕速度，具有各向異性的腐蝕...

無論是無機材料還是有機材料制成的眼鏡片，在日常的使用中，由于與灰塵或砂礫（氧化硅）的摩擦都會造成鏡片磨損，在鏡片表面產(chǎn)生劃痕。與玻璃片相比，有機材料制成的硬性度比較低，更易產(chǎn)生劃痕。通過顯微鏡，我們可以觀察到鏡片表面的劃痕主要分為二種，一是由于砂礫產(chǎn)生的劃痕，淺而細小，戴鏡者不容易察覺；另一種是由較大砂礫產(chǎn)生的劃痕，深且周邊粗糙，處于中心區(qū)域則會影響視力。1、*代光學(xué)鍍膜系統(tǒng)技術(shù)抗磨損膜始于20世紀70年代初，當時認為玻璃鏡片不易磨制是因為其硬度高，而有機鏡片則太軟所以容易磨...

任何一種光學(xué)儀器的用途和使用條件必然會對它的光學(xué)系統(tǒng)提出一定的要求，因此，在我們進行光學(xué)設(shè)計之前一定要了解對光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的要求。這些要求概括起來有以下幾個方面。一、光學(xué)系統(tǒng)的基本特性：數(shù)值孔徑或相對孔徑；線視場或視場角；系統(tǒng)的放大率或焦距。此外還有與這些基本特性有關(guān)的一些特性參數(shù)，如光瞳的大小和位置、后工作距離、共軛距等。二、系統(tǒng)的外形尺寸：光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的外形尺寸，即系統(tǒng)的橫向尺寸和縱向尺寸。在設(shè)計多光組的復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)時，外形尺寸計算以及各光組之間光瞳的銜接都是很重要的。三、...

光學(xué)鍍膜系統(tǒng)是改變光學(xué)零件表面特征而鍍在光學(xué)零件表面上的一層或多層膜。可以是金屬膜、介質(zhì)膜或這兩類膜的組合。光學(xué)薄膜是各種先進光電技術(shù)中*的一部分，它不僅能改善系統(tǒng)性能，而且是滿足設(shè)計目標的必要手段，光學(xué)薄膜的應(yīng)用領(lǐng)域設(shè)及光學(xué)系統(tǒng)的各個方面，包括激光系統(tǒng)，光通信，光顯示，光儲存等，主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。下面就由小編具體為大家介紹分析光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的基礎(chǔ)知識，以作為參考希望能夠幫助到大家。光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的定義是：涉及光在傳播路徑過程...

進口雙模式刻蝕機全自動上下載片，帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺的深硅刻蝕系統(tǒng)，帶8"ICP源。系統(tǒng)可以配套500L/S抽速的渦輪分子泵，可以使得工藝壓力達到幾mTorr的水平。在低溫刻蝕的技術(shù)下，系統(tǒng)可以達到硅片的高深寬比刻蝕。進口雙模式刻蝕機主要特點：基于PC控制的緊湊型立柜式百級DRIE深硅刻蝕系統(tǒng)，擁有高縱橫比的刻蝕能力；配套LabView軟件，菜單驅(qū)動，自動記錄數(shù)據(jù)；觸摸屏監(jiān)控；全自動系統(tǒng)，帶安全聯(lián)鎖；四級權(quán)限，帶密碼保護；自動上下載片；帶LoadLock預(yù)真空鎖；He...

全自動磁控濺射系統(tǒng)是物理氣相沉積（PhysicalVaporDeposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點，而上世紀70年代發(fā)展起來的全自動磁控濺射系統(tǒng)法更是實現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。全自動磁控濺射系統(tǒng)通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。全自動磁控濺射系統(tǒng)技術(shù)分類直流濺射法要求...